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真空鍍膜
PVD、ALD過程中的精密氣體流量控制
真空鍍膜系統內凈化氣體和反應氣體的輸入需要快速、穩定、精確的控制。設計創新的ALICAT質量流量控制器不但在性能可靠性上優于傳統MFC，并提供可競爭的銷售價格。
真空鍍膜應用中可靠產出的保障
?快速控制清潔氣和反應氣的流量，從而確保真空鍍膜腔體內最佳的氣體混合
?微小流量的精密控制 – 最小可控流量為0.025sccm!
?試驗室和各種測試臺的首選
?開放行業內領先的通訊協議，如：EtherNet/IP，DeviceNet等，方便各種工業應用
影響真空鍍膜最終結果的設備和因素
?壓力控制器、質量流量控制器
?快速、精密的氣氛控制，以保障最佳鍍膜效果
?簡化的系統設計，從而節省真空鍍膜設備的安裝和維護成本
?氣體可切換，以減少不必要的質量流量控制器庫存
?適用于腐蝕性氣體的不銹鋼本體
品種齊全，上萬種儀表
國外直銷， 原裝進口
誠信服務，售后保證
